Generar la descarga
El plasma se establece en baja presión delante de la superficie de la muestra.
Análisis directo de materiales sólidos
Análisis de Materiales por Glow Discharge
De la caracterización rápida de ligas y revestimientos a la determinación de impurezas en niveles ultratrazo: dos rutas complementarias para revelar composición, pureza y distribución de los elementos en profundidad.
Análisis directoMenos etapas de preparación
Capa la capaPerfiles de profundidad
De la matriz al ppbRutas analíticas complementarias
GD-Profiler 2HORIBA · GD-OES
ELEMENT GD PlusThermo Scientific · GD-MS
GD-OES + GD-MSDos rutas analíticas complementarias
Principio común
Cómo la descarga luminescente accede al sólido
La muestra es posicionada en la fuente como cátodo. En baja presión, el argón forma un plasma; sus iones bombardean un área controlada de la superficie y liberan material por sputtering. La información analítica cambia conforme la ruta de detección.
Corte esquemáticaFuente de descarga luminescente
Argón · baja presiónIones Ar+Átomos M de muestraÁrea analizada
01
La muestra cierra la célula como cátodo
Un área definida de la superficie está expuesta al gas de descarga, sin disolución química del sólido.
02
El plasma produce el sputtering
Iones Ar+ aceleran contra la muestra y eliminan átomos sucesivamente, formando un cráter controlado.
03
El material eliminado genera la señal
Atomos excitados emiten luz; especies ionizadas pueden ser extraídas y separadas según la masa.
RUTA DE EMISIÓN ÓPTICAFótons → GD-OESLectura simultánea y perfiles rápidos de composición.
RUTA DE ESPECTROMETRÍA DE MASASIones → GD-MSAlta resolución para trazos, ultratrazos y pureza.
El perfil en profundidad se construye relacionando la señal al tiempo de erosión. La conversión a profundidad puede usar calibración de la tasa de sputtering o medición directa, según el sistema y la configuración.
Eliminar capas sucesivas
El sputtering expone sucesivamente revestimientos, interfaces y sustrato.
Elegir detección
OES para rapidez y perfiles; MS para alta pureza, trazos y ultratrazos.
Orientación por objetivo
Comparación entre las tecnologías
Seleccione la prioridad del análisis para ver la ruta inicialmente más adecuada. La configuración final depende de la matriz, de la geometría de la muestra y de la franja analítica.
Su prioridad
Objetivo analítico y matriz
La selección de la técnica depende del material y del objetivo analítico.
ROTA RECOMENDADA
GD-OES · HORIBA GD-Profiler 2
Para investigar composición, espesor, interfaces y difusión en películas delgadas o capas gruesas con lectura simultánea y alta velocidad.
Cuando considere GD-MS tambiénCuando el mismo estudio exija concentraciones trazo y ultratrazo o materiales de pureza elevada.
Portafolio complementario
Dos tecnologías, aplicaciones distintas
El hub no trata una técnica como evolución de la otra. Cada sistema ocupa una franja de decisión específica dentro de la caracterización de materiales.
HORIBAOES
OESGD-Profiler 2
GD-OES Pulsed-RF para análisis rápido y simultáneo de la composición elemental, de la superficie al material a granel.
✓Perfiles elementales de películas delgadas y capas gruesas.
✓Análisis de materiales conductores, no conductores e híbridos.
✓Cobertura espectral para elementos ligeros, incluyendo H, O, C, N y Cl.
✓Fuente RF pulsada adecuada a materiales frágiles y sensibles al calor.
✓DiP para medición directa de la profundidad y la tasa de erosión durante el análisis.
120–800 nmrango espectral
nm → µmEscala de capas
SimultáneoDetección OES
THERMO SCIENTIFICMS
MSELEMENT GD Plus
GD-MS de alta resolución para análisis directo de sólidos de alta pureza y determinación robusta de trazos y ultratrazos.
✓Determinación de muchos elementos hasta la franja de ppb o abajo, conforme matriz y aplicación.
✓Tres modos fijos de resolución de masa para eliminar interferencias espectrales.
✓Rango dinámico superior a 12 órdenes de grandeza, de la matriz al ultratrazo.
✓Fuente fast-flow con intercambio de muestra rápida y alta productividad.
✓análisis global y perfil de profundidad en materiales avanzados.
>10¹²Rango dinámico
R 10.000Alta resolución
hasta 5/hMuestras
Aplicaciones por material
De la superficie a la pureza del sólido
La ruta puede cambiar según el objetivo. Un mismo sector puede usar GD-OES para capas y GD-MS para impurezas en niveles muy bajos.
Metales y aleaciones
Composición, tratamientos superficiales, segregación, difusión y control de proceso.
GD-OES + GD-MSRevestimientos y capas
Espesura, interfaces, gradientes y distribución elemental en profundidad.
Prioridad GD-OESMateriales de alta pureza
Impurezas críticas en metales, aleaciones especiales y materiales tecnológicos.
Prioridad GD-MSSemiconductores
Silicio, objetivos de sputtering, wafers, capas funcionales y contaminantes.
GD-OES + GD-MSBaterías y energía
Electrodos, interfaces, materiales activos, difusión y impurezas elementales.
GD-OES + GD-MSAeroespacial
Superligas de níquel, titanio, recubrimientos y capas de difusión.
GD-OES + GD-MSFotovoltaica y electrónica
Películas delgadas, células solares, contactos metálicos y materiales electrónicos.
GD-OES + GD-MSInvestigación de materiales
Desarrollo, fallas, comparación de procesos y caracterización avanzada.
Conforme objetivoComparativo técnico
¿GD-OES o GD-MS?
Una visión práctica de las diferencias de posicionamiento. Valores finales dependen de la configuración, del elemento y de la matriz analizada.
| Criterio | GD-OES · GD-Profiler 2 | GD-MS · ELEMENT GD Plus |
|---|---|---|
| Foco principal | Velocidad, composición y perfiles de capas | Alta pureza, trazo y ultratrazo |
| Detección | Emisión óptica simultánea | Espectrometría de masas de alta resolución |
| Rango típico de interés | De constituyentes mayoritarios a niveles bajos, conforme elemento y matriz | De la matriz a trazos y ultratrazos; muchos elementos en la franja de ppb |
| Perfil de profundidad | Adecuado para análisis de rutina, películas y estructuras multicapa | Disponible con alta sensibilidad elemental |
| Materiales | Conductores, no conductores e híbridos con fuente RF pulsada | Conductores y muchos no conductores, conforme preparación y configuración |
| Productividad | Muy alta; análisis simultáneo y rápido | Alta para GD-MS; hasta 5 muestras por hora en aplicaciones adecuadas |
| Interferencias espectrales | Selección de líneas y configuración óptica | Tres resoluciones fijas para separación de interferencias |
| Aplicación principal | “ ¿Cómo cambia la composición de la superficie al sustrato?” | “¿Cuántas impurezas existen y en qué nivel en el material? " |
El análisis por Glow Discharge se encuentra y destructiva: la pulverización forma un cráter en la región medida. La SENS evalúa la muestra, objetivo y requisitos antes de definir la solución.
Biblioteca técnica
Catálogos para descargar
Archivos incorporados en esta página. La descarga funciona sin acceder a servidores externos.
GD-Profiler 2 · HORIBA
Catálogo técnico · Pulsed-RF GD-OES y DiP
ELEMENT GD Plus · Thermo Scientific
Catálogo técnico · GD-MS de alta resolución
Los documentos son materiales oficiales de sus fabricantes y se han incorporado a la consulta local.
Preguntas frecuentes
Lo esencial antes de elegir
La decisión comienza por la matriz, concentración esperada, geometría de la muestra e información deseada en profundidad.
¿Cuál es la diferencia entre GD-OES y GD-MS?
El GD-OES prioriza velocidad, análisis simultáneo y perfiles elementales de capas. El GD-MS de alta resolución prioriza sensibilidad, selectividad y cuantificación de trazos y ultratrazos en materiales de alta pureza.
Glow Discharge analiza la muestra sólida directamente?
Sí. La superficie se pulveriza de forma controlada por un plasma de baja presión. El material retirado es analizado por emisión óptica en el GD-OES o por espectrometría de masas en el GD-MS.
¿Es posible obtener perfil de profundidad?
Sí. Como la eliminación ocurre capa la capa, las dos técnicas pueden acompañar la distribución elemental en profundidad. El desempeño depende del material, del espesor y de las condiciones de análisis.
¿El análisis es destructivo?
Sí. El proceso forma un cráter localizado en la muestra. El área y la profundidad varían con el sistema, la geometría y el método analítico.
¿SENS ayuda a evaluar la muestra?
Sí. El equipo evalúa matriz, formato, intervalo analítico, elementos críticos, productividad y necesidad de perfiles de profundidad para orientar la tecnología y la configuración.
Tecnologías de Glow Discharge para diferentes materiales.
Informe a la SENS la matriz, el objetivo analítico y la franja de concentración esperada.